可诱导干细胞（iPS）的诱导过程伴随着体细胞表观遗传标签的去除和干性细胞表观遗传信号的建立。早期研究表明多种表观遗传修饰的抑制剂会显著增强iPS在四因子条件下的诱导效率，但是其机制需要深入探讨。
      陶伟研究小组与其他实验室密切合作，研究染色质重塑复合体MBD3/NuRD在iPS诱导过程中的作用机制。研究发现，NuRD复合体阻碍iPS的形成。在四因子（Oct4、Sox2、c-Myc和Klf4）诱导条件下诱导的iPS细胞中NuRD复合体的表达量明显下调。干涉染色质重塑复合体MBD3/NuRD中核心组分如Mi2或MBD3的蛋白表达能够上调iPS的诱导效率。RNA组学表明核心组分的去除可以显著增强多种干性基因的表达，尤其是Nonag基因的表达明显上调。进一步研究发现这个复合体能够直接或间接抑制多种干性基因的表达。 NuRD复合体直接结合在Nanog和Oct4基因启动子上，建立DNA甲基化以及相适应的异质性组蛋白修饰来抑制其表达。MBD3的去除可以替代四因子中的c-myc诱导出iPS， 但Nanog作用在MBD3的下游。研究揭示了染色质重塑复合体NuRD在iPS诱导过程中的机制，为设计采用单纯小分子诱导干细胞形成提供了新的靶点。
      研究结果在线发表在Stem Cells上。陶伟研究小组2012曾在PNAS上发表了表观遗传研究的新进展。 博士生凌特和谢文兵与其他实验室2位研究人员为文章的共同第一作者。这项工作得到了973项目，基金委表观遗传重大研究计划和国家自然科学基金的资助。